CN103441154A 一种ZnO纳米阵列紫外探测器及其制作方法 (北京科技大学).docxVIP

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CN103441154A 一种ZnO纳米阵列紫外探测器及其制作方法 (北京科技大学).docx

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN103441154A

(43)申请公布日2013.12.11

(21)申请号201310259647.1

(22)申请日2013.06.26

(71)申请人北京科技大学

地址100083北京市海淀区学院路30号

(72)发明人张跃衣芳廖庆亮黄运华闫小琴

(74)专利代理机构北京金智普华知识产权代理有限公司11401

代理人皋吉甫

(51)Int.CI.

HO1L31/0224(2006.01)

HO1L31/18(2006.01)

HO1L31/09(2006.01)

权利要求书1页说明书3页附图2页

(54)发明名称

一种ZnO纳米阵列紫外探测器及其制作方法

(57)摘要

CN103441154A本发明一种ZnO纳米阵列紫外探测器及其制作方法,该器件结构为金属-半导体-金属接触型,从下到上依次为ITO或FTO导电玻璃的基底,覆盖在基底上的ZnO薄膜,位于ZnO薄膜的中间位置的另一端电极,以及另一端电极四周的ZnO纳米阵列,同时基底为一端电极;另一端电极的面积为基底总面积的10%~12%。制备方法如下:先利用磁控溅射在基底上生长一层ZnO薄膜;然后在ZnO薄膜上电极并引出一端导线;接着在电极上覆盖PDMS保护层;再通过水热法生长ZnO纳米阵列;最后在样品一侧边缘处刮掉部分Zn0使导电玻璃基底裸露并引出另一端导线,即得所述紫外

CN103441154A

CN103441154A权利要求书1/1页

2

1.一种ZnO纳米阵列紫外探测器,其特征在于:该器件结构为金属-半导体-金属接触型,从下到上依次为ITO或FTO导电玻璃的基底,覆盖在所述基底上的ZnO薄膜,位于所述Zn0薄膜中间位置的一端电极,以及所述一端电极四周的ZnO纳米阵列,同时所述基底为另一端电极;其中,所述一端电极为Ag或Pt;一端电极的面积为基底总面积的10%~12%。

2.一种如权利要求1所述ZnO纳米阵列紫外探测器的制作方法,其特征在于,具体包括以下步骤:

步骤(1).以ITO或FTO导电玻璃为基底,所述基底依次用丙酮、乙醇和异丙醇进行超声清洗,用氮气吹干,备用;

步骤(2).利用磁控溅射法在上述步骤(1)处理过的ITO或FTO导电玻璃基底上沉积一层厚度为200~250nm的Zn0薄膜,再在Zn0薄膜的中央位置附近点Ag胶或点Pt浆做成一端电极并且引出导线,放置4~8h使电极干化,其中,一端电极的面积为基底总面积的10%~12%;

步骤(3).在Ag或Pt一端电极上覆盖一层已配制好的聚二甲基硅氧烷PDMS,在60~70℃的烘箱中加热35~45min至PDMS电极保护层完全固化;

步骤(4).将经过步骤(3)处理后所得的基片放入盛有生长液的容器中生长8~14h得到ZnO纳米阵列,结束生长后用去离子水清洗并烘干;

步骤(5).将经步骤(4)制备后所得的样品的一侧边缘处刮掉占样品总面积7%~9%的ZnO层使该处ITO或FTO导电玻璃基底裸露,把露出的导电玻璃基底作为另一端电极并接出导线,即得到ZnO纳米阵列紫外探测器。

CN103441154A说明书1/3页

3

一种Zn0纳米阵列紫外探测器及其制作方法

技术领域

[0001]本发明属于纳米材料和纳米功能器件制备技术领域,涉及一种Zn0纳米阵列紫外探测器以及该紫外探测器的制作方法。

[0002]

背景技术

[0003]紫外探测器广泛应用于科研、军事、太空、环保和许多工业领域,如太空飞船中的紫外光监视器,臭氧层太阳光紫外线监视,热背景火焰探测,废气监视等;还可用于医学、生物学等;在日常生活中还可作为UV-A(230~400nm)、UV-B(280~320nm)紫外计量计供海滩、高山等富紫外环境中的个人使用。

[0004]Zn0是一种宽禁带直接带隙化合物半导体材料,禁带宽度约为3.37eV,激子束缚能高达60meV。Zn0在室温下的紫外受激

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