ASTM F63-23 中文版 半导体加工用超纯水的标准指南.docxVIP

ASTMF63-23中文版半导体加工用超纯水的标准指南

1.前言

本标准指南参照ASTMF63-23英文版制定，专门针对半导体加工过程中所用超纯水的质量管控、技术要求、检测方法、生产与使用规范及质量保证等环节，提供全面、系统的标准化指导。半导体加工用超纯水是半导体制造的核心基础材料，广泛应用于晶圆清洗、光刻、蚀刻、离子注入、薄膜沉积等关键制程，其水质纯度直接影响晶圆表面洁净度、器件性能、成品合格率及生产工艺稳定性，是半导体产业向高集成度、高精度、高可靠性方向发展的重要保障。

本标准指南严格遵循ASTM国际标准的标准化原则，与ASTMF63-23英文版技术要求保持一致，同时结合我国半导体产业的发展现状、加工工艺特点及实际应用需求，补充了半导体超纯水在不同制程中的差异化要求、国产化检测设备适配方案及污染防控的行业实践经验，确保指南的适用性、可操作性和先进性。本指南明确了半导体加工用超纯水的术语定义、范围、水质要求、检测方法、生产与使用控制、质量保证与质量控制、安全注意事项、附录及结语等内容，可作为半导体生产企业、超纯水制备企业、第三方检测机构及科研单位开展半导体超纯水相关工作的核心依据，为半导体加工用超纯水的质量管控提供技术支撑，助力我国半导体产业高质量发展。若本标准指南与ASTMF63-23英文版存在差异，以英文版为准；本指南将结合半导体技术、超纯水制备技术及检测技术