CS-202607-武汉华工激光工程有限责任公司-超快激光高效图案化光刻方法及系统研究比赛方案.pdfVIP

题目编号：CS-202607

超快激光高效图案化光刻方法及系统研究

比赛方案

一、发榜单位

武汉华工激光工程有限责任公司

二、题目名称

超快激光高效图案化光刻方法及系统研究

三、题目介绍

光刻技术是半导体领域集成电路制造中的核心工艺，是利

用光学‑化学反应原理和化学、物理刻蚀方法，将特定图案制作

在单晶表面或者介质层表面（如硅片或玻璃片），生成特定功

能图案的工艺技术。随着半导体技术的发展，光刻技术对于加

工精度与加工效率的要求逐步提高，其精度直接决定了集成电

路的线宽极限与器件性能，其效率直接决定了大规模生产集成

电路器件所需的时间成本。因此，提升光刻技术加工精度和加

工效率尤为重要。

然而，现有的光刻技术主要包括紫外激光掩膜光刻、电子

束光刻、纳米压印光刻、激光直写光刻等方法。这些方法在加

工精度、效率、成本等方面存在一定的局限性。例如，紫外激

光掩膜光刻需要很高的套刻精度，针对每种加工图案需要制作

特定的掩膜图案，成本高；电子束光刻的逐点扫描写入速度慢，

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设备成本高；纳米压印光刻的模板易磨损或污染，加工图