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基于半监督学习与集成数据增强的光刻热点检测方法研究

关键词：光刻技术；热点检测；半监督学习；集成数据增强；深度学习

第一章绪论

1.1研究背景及意义

光刻技术作为微电子制造的核心环节，其热点检测的准确性直接关系到芯片的性能和可靠性。传统的热点检测方法往往依赖于大量的人工标注数据，而随着制造工艺的不断进步，获取足够标注数据变得越来越困难。因此，研究一种高效、准确的热点检测方法具有重要的理论价值和广阔的应用前景。

1.2国内外研究现状

目前，热点检测方法主要包括基于机器学习的方法和基于深度学习的方法。基于机器学习的方法通过构建分类器进行热点检测，但受限于训练数据的质量和数量。基于深度学习的方法则通过深度神经网络自动学习特征，取得了较好的效果。然而，这些方法往往需要大量的标注数据，且对于复杂场景的适应性有待提高。

1.3研究内容与贡献

本研究主要围绕半监督学习和集成数据增强展开，提出一种新的光刻热点检测方法。首先，通过半监督学习机制，利用少量标注样本指导大量未标注样本的学习，提高了模型的泛化能力。其次，结合集成数据增强技术，进一步提升模型对复杂场景的识别能力。本研究的创新点在于将半监督学习和集成数据增强相结合，为光刻热点检测提供了一种新的解决方案。

第二章相关工作

2.1光刻技术概述

光刻技术是微电子制造中的关键步骤，它通过将掩模上的图案转移到硅片上，形成电路图案。光刻过程包