1. 您所在位置：
  2. 网站首页
  3. 文档分类
  4. 行业资料
  5. 国内外标准规范

CN119491194A 一种改善靶材磁控溅射厚度和均匀性方法的设备 （芯微半导体(南宁)有限公司）.docxVIP

  • 0
  • 0
  • 约1.07万字
  • 约 21页
  • 2026-05-03 发布于山西
  • 举报

CN119491194A 一种改善靶材磁控溅射厚度和均匀性方法的设备 （芯微半导体(南宁)有限公司）.docx

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN119491194A

    (43)申请公布日2025.02.21

    (21)申请号202411540156.9

    (22)申请日2024.10.31

    (71)申请人芯微半导体（南宁）有限公司

    地址530000广西壮族自治区南宁市长凯

    路22号1号厂房3楼

    (72)发明人刘俊明梁明敏赵杰

    (74)专利代理机构河南景润知识产权代理有限

    公司41262

    专利代理师于东云

    (51)Int.Cl.

    C23C14/35(2006.01)

    C23C14/50(2006.01)

    C23C14/54(

    您可能关注的文档

    最近下载

    文档评论（0）

    1亿VIP精品文档

    更多 >

    相关文档

    更多 >