CN112424904A 控制等离子体加工的系统和方法 （东京毅力科创株式会社）.docxVIP

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN112424904A

(43)申请公布日2021.02.26

(21)申请号201980045152.4

(22)申请日2019.08.08

(30)优先权数据

62/718,4542018.08.14US

62/724,8792018.08.30US

16/219,5352018.12.13US

(85)PCT国际申请进入国家阶段日2021.01.04

(86)PCT国际申请的申请数据

PCT/US2019/0457562019.08.08

(87)PCT国际申请的公布数据

WO2020/036806EN2020.02.20

(71)申请人东京毅力科创株式会社地址日本东京都

(72)发明人阿洛科·兰詹彼得·文特泽克

大幡光德

(74)专利代理机构北京集佳知识产权代理有限

公司11227

代理人陈炜李德山

(51)Int.Cl.

H01J37/32(2006.01)

权利要求书3页说明书16页附图12页

(54)发明名称

控制等离子体加工的系统和方法

(57)摘要

CN112424904A一种等离子体加工系统包括真空室、第一耦合电极、布置在该真空室中的衬底固持器、第二耦合电极以及控制器。该衬底固持器被配置为支撑衬底。该第一耦合电极