工业园区新建光芯片干法刻蚀加工车间项目可行性研究报告.docx

工业园区新建光芯片干法刻蚀加工车间项目可行性研究报告

第一章项目总论

项目名称及建设性质

项目名称：工业园区新建光芯片干法刻蚀加工车间项目

项目建设性质：本项目属于新建工业项目，专注于光芯片干法刻蚀加工业务，致力于打造技术先进、绿色环保、高效智能的专业化加工车间。

项目占地及用地指标：项目规划总用地面积50000平方米（折合约75亩），建筑物基底占地面积36000平方米；规划总建筑面积58000平方米，其中主体生产车间面积42000平方米，辅助设施面积6000平方米，办公用房4500平方米，职工宿舍3500平方米，其他配套设施2000平方米；绿化面积3000平方米，场区停车场和道路及场地硬