磁控溅射法制备BT - NZF复相薄膜及其电磁与屏蔽性能的深度剖析.docx

磁控溅射法制备BT-NZF复相薄膜及其电磁与屏蔽性能的深度剖析

一、引言

1.1研究背景与意义

随着现代电子技术的飞速发展，电子设备的集成度不断提高，工作频率持续攀升，这使得电磁干扰（EMI）问题日益严重。电磁干扰不仅会影响电子设备的正常运行，降低其性能和可靠性，还可能对人体健康造成潜在威胁。因此，开发高性能的电磁屏蔽材料成为了当前电子领域的研究热点之一。

薄膜材料由于其独特的物理性质和广泛的应用前景，在现代科技领域中占据着重要地位。磁控溅射法作为一种常用的薄膜制备技术，具有沉积速率高、薄膜质量好、成分可控等优点，被广泛应用于制备各种功能薄膜。通过磁控溅射法制备的薄膜材料在电子学、光学、