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- 2026-05-08 发布于上海
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ICS31.080.01
CCSL40
中华人民共和国国家标准
GB/TXXXXX—XXXX
碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管
(SiCMOSFET)测试方法第2部分:栅极
电荷
Measurementmethodforsiliconcarbidemetal-oxide-semiconductor
field-effecttransistor(SiCMOSFET)—Part2:Gatecharge
(点击此处添加与国际标准一致性程度的标识)
(征求意见稿)
2026410
(本草案完成时间:年月日)
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XXXX-XX-XX发布
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