基于4H-SiC的新型MOS结构设计.pdf

摘要

SiC材料凭借其高导热性、高击穿电场、宽禁带和高电子饱和速率等优秀特

性,以其独特而优越的电学性能在高频、高压、大功率的应用领域占有举足轻重的

地位,尤其是电力电子应用领域,展现了其优异的材料特性。在近几年,虽然

SiCMOSFET具有极大的市场优势和普遍的应用场景,但是SiCMOSFET仍然存在

一些在一些设计和工艺上的技术瓶颈。首先,当SiCMOSFET应用于高压场景时,

在阻断状态下栅氧化层较高的峰值电场,容易被提前击穿。第二,在续流过程中,

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