CN119546921A 膜厚测定装置、成膜装置、膜厚测定方法及电子器件的制造方法 （佳能特机株式会社）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119546921A

(43)申请公布日2025.02.28

(21)申请号202380052985.X

(22)申请日2023.06.01

(30)优先权数据

2022-1181242022.07.25JP

(85)PCT国际申请进入国家阶段日2025.01.10

(86)PCT国际申请的申请数据

PCT/JP2023/0204102023.06.01

(87)PCT国际申请的公布数据

WO2024/024266JA2024.02.01

(71)申请人佳能特机株式会社地址日本

(72)发明人朴笑敏

(74)专利代理机构中国贸促会专利商标事务所

有限公司11038

专利代理师黄盼

(51)Int.Cl.

G01B11/06(2006.01)

C23C14/54(2006.01)

G09F9/00(2006.01)

权利要求书2页说明书15页附图18页

(54)发明名称

膜厚测定装置、成膜装置、膜厚测定方法及

电子器件的制造方法

(57)摘要

CN119546921A膜厚测定装置设置于对基板进行成膜的成膜室或用于向成膜室交接基板的交接室，所述膜厚测定装置具备：受光部，所述受光部接受由对基板射出光的射出部射出并由基板反射的反射光；以及确定部件，所述确定部件基