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电子真空镀膜工专项题库

一、单选题（只有一个正确答案）

1.电子真空镀膜过程中，溅射靶材与基片之间形成等离子体的主要机理是？

A.辉光放电

B.热辐射

C.导电加热

D.电磁感应

答案：A

解析：辉光放电是电子真空镀膜中，通过施加高压电场使气体分子电离产生等离子体的过程。

2.下列哪种镀膜材料是利用电阻加热蒸发法制备的？

A.多晶硅

B.二氧化硅

C.碳化钛（TiC）

D.硫化锌（ZnS）

答案：D

解析：硫化锌（ZnS）熔点相对较低，适合采用电阻加热蒸发法制备薄膜。

3.磁控溅射技术中，磁控管产生的磁场与电场方向相互垂直，这种结构被称为？

A.布鲁斯特角

B.正交场

C.临界角

D.阴极位降区

答案：B

解析：正交场是指磁场与电场相互垂直，该结构是磁控溅射形成高密度等离子体的关键。

4.电子束蒸发过程中，当蒸发源达到一定温度时，发射的电子在电场作用下加速撞击蒸发物质，该现象称为？

A.俄歇效应

B.热辐射

C.电子束轰击

D.等离子体注入

答案：C

解析：电子束蒸发是利用高能电子束轰击蒸发材料使其局部熔化蒸发，通过电磁透镜聚焦电子束。

5.真空镀膜机中，使用油扩散泵抽气时，工作温度通常需要控制在多少度以上？

A.100℃

B.150℃

C.200℃

D.250℃

答案：C

解析：油扩