高效硅片清洗制绒技术操作指南.pptxVIP

会计学1硅片的清洗(qīngxǐ)与制绒一次清洗(qīngxǐ)培训材料修改稿第一页，共68页。第1页

2硅片的化学(huàxué)清洗颗粒沾污：利用物理方法，可采用机械擦洗或超声波清洗技术来去除。超声波清洗时，因为空洞现象，只能去除≥0.4μm颗粒。兆声清洗时，因为0.8Mhz的加速度作用，能去除≥0.2μm颗粒，虽然液温下降到40℃也能得到与80℃超声清洗去除颗粒的效果，而且又可避免(bìmiǎn)超声洗硅片产生损伤。超声清洗(qīngxǐ)第1页/共67页第二页，共68页。第2页

3硅片的化学(huàxué)清洗硅片化学清洗的主要(zhǔyào)目标是针对上述可能存在的硅片表面杂质进行去除。常用的化学清洗剂有高纯水、有机溶剂（如甲苯、二甲苯、丙酮、三氯乙烯、四氯化碳等）、浓酸、强碱以及高纯中性洗涤剂等。常用(chánɡyònɡ)的化学清洗剂第2页/共67页第三页，共68页。第3页

4硅片的化学(huàxué)清洗（1）硫酸热的浓硫酸对有机物有强烈的脱水炭化作用，采用浓硫酸能有效去除硅片表面有机物；（2）王水王水含有极强的氧化性、腐蚀性和强酸性，在清洗中主要利用王水的强氧化性；王水能(shuǐnénɡ)溶解金等不活泼