CN119585842A 基板处理方法和基板处理系统 （东京毅力科创株式会社）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119585842A

(43)申请公布日2025.03.07

(21)申请号202380054369.8

(22)申请日2023.07.28

(30)优先权数据

63/393,6382022.07.29US

(85)PCT国际申请进入国家阶段日2025.01.16

(86)PCT国际申请的申请数据

PCT/JP2023/0276762023.07.28

(87)PCT国际申请的公布数据

WO2024/024919JA2024.02.01

(71)申请人东京毅力科创株式会社地址日本

(72)发明人熊仓翔小野健太中根由太西塚哲也本田昌伸

(74)专利代理机构北京市铸成律师事务所

11313

专利代理师王艳波李文颖

(51)Int.Cl.

H01L21/027(2006.01)

权利要求书4页说明书28页附图13页

(54)发明名称

基板处理方法和基板处理系统

(57)摘要

CN119585842A提供了一种调节显影图案形状的技术。提供了基板处理方法。该方法包括：(a)在基板支撑部上提供具有底膜和底膜上的含金属抗蚀剂膜的基板的工序，含金属抗蚀剂膜包括第一区域和第二区域；和(b)对含金属抗蚀剂膜进行显影而从含金属抗蚀剂膜选择性除去第二区域的工序，