Al、In掺杂氧化镓薄膜的制备及光电性能研究.pdf

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摘要

氧化镓(GaO)是直接宽带隙半导体,室温下禁带宽度为4.9eV,广泛应用于

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日盲紫外探测器。本文基于β-GaO基紫外探测器的选择性响应开展理论和实验研究,

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采用溶胶-凝胶法制备掺杂β-GaO薄膜,探究Al、In单/共掺杂对于薄膜的晶体结构、

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