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- 2026-06-01 发布于北京
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摘要
磁性薄膜材料在现代电子学、自旋电子学以及高频器件领域中具有重要的应用价值。随着技术的不断发展,对高性能磁性材料的需求日益增加,特别是具有优异面内或面外磁各向异性的薄膜材料,已成为研究热点。本文针对这一需求,系统研究了NiFe薄膜和Co/Ni多层膜的磁性特性及其磁各向异性表现,为高性能磁性材料的设计与优化提供了理论支持和实验依据。本文通过铁磁共振(FMR)、振动样品磁强计(VSM)技术,研究了NiFe薄膜和Co/Ni多层膜的静态和动态磁性特性,系统地分析了高真空磁控溅射制备出的这两种薄膜材料在不同外加磁场大小、角度条件下的磁化行为及
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