CN119768569A 电解质介质和使用该电解质介质对金属工件进行电化学抛光的方法 （Otec精密研磨有限责任公司）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119768569A

(43)申请公布日2025.04.04

(21)申请号202380064235.4

(22)申请日2023.08.18

(30)优先权数据

102022123211.52022.09.12DE

(85)PCT国际申请进入国家阶段日2025.03.06

(86)PCT国际申请的申请数据

PCT/EP2023/0727552023.08.18

(87)PCT国际申请的公布数据

WO2024/056315DE2024.03.21

(71)申请人OTEC精密研磨有限责任公司地址德国施特劳本哈特-康威勒

(72)发明人C·B·费尔南德斯L·沃尔克L·戈勒M·埃克尔

N·格根海默M·温格拉斯

(74)专利代理机构北京市柳沈律师事务所

11105

专利代理师任丽荣

(51)Int.Cl.

C25F3/16(2006.01)

B23H5/08(2006.01)

B24B37/04(2012.01)

权利要求书2页说明书7页

(54)发明名称

电解质介质和使用该电解质介质对金属工

件进行电化学抛光的方法

(57)摘要

CN119768569A本发明涉及用于电化学抛光金属工件的电解质介质，该电解质介质一方面包含多个固体粒状颗粒