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- 2026-06-24 发布于陕西
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光刻机全系统设计计算书
第1章设计概述与设计依据
1.1设计目标
本设计计算书针对193nmArF准分子激光步进扫描光刻机，目标技术节点为
90nm，主要设计指标如下：
设计参数目标值备注
曝光波长λ193nmArF准分子激光
分辨率R≤90nm
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