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2026江苏赫尔斯镀膜技术有限公司招聘2人笔试历年难易错考点试卷带答案解析

一、单项选择题

下列各题只有一个正确答案，请选出最恰当的选项（共30题）

1、在真空镀膜工艺中，为了提高膜层与基底的附着力，通常首选的预处理步骤是？

A.高温退火

B.离子轰击清洗

C.化学酸洗

D.超声波水洗

2、赫尔斯镀膜技术若采用磁控溅射法沉积金属薄膜，下列哪种气体最常作为工作气体？

A.氧气

B.氮气

C.氩气

D.氢气

3、关于光学薄膜的折射率匹配，下列说法正确的是？

A.高折射率膜层应直接镀在空气侧

B.减反射膜的原理是利用光的干涉相消

C.增透膜的厚度应为波长的整数倍

D.折射率越高，透光率一定越高

4、在PVD（物理气相沉积）过程中，“平均自由程”主要受哪个因素影响最大？

A.基底温度

B.真空度（气压）

C.靶材功率

D.基底转速

5、下列哪种缺陷最可能是由于镀膜前基底清洗不彻底导致的？

A.膜层颜色不均

B.膜层起泡或剥落

C.沉积速率过慢

D.靶材利用率低

6、在监控薄膜厚度时，石英晶体微天平（QCM）的主要工作原理是基于？

A.光学干涉

B.压电效应引起的频率变化

C.电阻变化

D.电容变化

7、关于ITO（氧化铟锡）导电薄膜，下列说法错误的是？

A.具有良好的可见光透过率

B.具有较低的方阻

C.必须在高温下才能沉积

D.广泛