CN119815921A 阵列基板及其制备方法、显示面板 （武汉华星光电技术有限公司）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119815921A

(43)申请公布日2025.04.11

(21)申请号202411827620.2

(22)申请日2022.02.28

(62)分案原申请数据

202210185018.82022.02.28

(71)申请人武汉华星光电技术有限公司

地址430079湖北省武汉市东湖开发区高

新大道666号生物城C5栋

(72)发明人尹文

(74)专利代理机构深圳紫藤知识产权代理有限

公司44570

专利代理师赵佳

(51)Int.Cl.

H10D86/60(2025.01)

H10D86/01(2025.01)

G02F1/1362(2006.01)

权利要求书2页说明书6页附图2页

(54)发明名称

阵列基板及其制备方法、显示面板

(57)摘要

CN119815921A本发明涉及一种阵列基板及其制备方法、显示面板。本发明的显示面板的所述第一层间绝缘层在所述第一基板上的投影与所述开口区在所述第一基板上的投影相切或相离，使得开口区的所述第二层间绝缘层靠近所述第一基板的一侧的表面贴合于所述栅极绝缘层远离所述第一基板的一侧的表面，使用相同材质制备栅极绝缘层和所述第二层间绝缘层，由此可以降低光线在开口区的所述第二层间绝缘层和所述栅极绝缘层的接触面的反射率，进而降低