高均匀膜层镀膜装置设计与应用指南.pdfVIP

（19）中华人民共和国国家知识产权局

（12）实用新型专利

中华人民共和国国家知识产权局实用新型专利申请公布号申请公布日申请号申请日申请人周时培地址四川省成都市中国科学院成都科学仪器厂发明人周时培专利代理机构代理人发明名称高均匀膜层镀膜装置摘要本装置能在凸凹平三种基片上涂高均匀膜层其摩擦轨道或由一对

（10）申请公布号C

（43）申请公布日1987.12.09

（21）申请号C

（22）申请日1986.07.08

（71）申请人周时培

地址四川省成都市中国科学院成都科学仪器厂

（72）发明人周时培

（74）专利代理机构

代理人

（51）Int.CI不具轴对称的面对称曲面构成工件夹具距蒸发源或最近的摆动极值角大于距蒸发源或最远的摆动极值角或在摩擦轨道下方的镀膜室底盘上同时装上一个可调可折可卸的空间遮挡片载台装置且操作简单使用方便重复性高生产效率是现