CN119828423A 一种用于光刻工艺窗口分析的输入数据质量评估方法 （浙江大学杭州国际科创中心）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119828423A

(43)申请公布日2025.04.15

(21)申请号202510228382.1

(22)申请日2025.02.28

(71)申请人浙江大学杭州国际科创中心

地址310000浙江省杭州市萧山区经济技

术开发区建设三路733号

(72)发明人周国栋何基斌陈甫讯曹书哲高大为

(74)专利代理机构上海科盛知识产权代理有限

公司31225

专利代理师周心怡

(51)Int.Cl.

G03F7/20(2006.01)

权利要求书2页说明书7页附图4页

(54)发明名称

一种用于光刻工艺窗口分析的输入数据质

量评估方法

(57)摘要

CN119828423A本发明涉及一种用于光刻工艺窗口分析的输入数据质量评估方法，方法包括以下步骤：S1、获取标准化后的数据；S2、采用RANSAC回归算法，得到稳健回归残差分析置信度；S3、基于隔离树异常分数得到隔离树置信度；S4、采用局部离群因子法得到局部离群因子置信度；S5、综合隔离树置信度和局部离群因子置信度得到无监督置信度；S6、得到高斯置信度；S7、综合稳健回归残差分析置信度、无监督置信度和高斯置信度得到综合置信度，得到用于光刻工艺窗口分析的输入数据质量评估结果。与现有技术相比，本发明具有提高光刻工艺