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磁控溅射废气处理规定

磁控溅射废气处理规定

一、废气污染源识别与分类收集处理系统的技术规范

在磁控溅射镀膜生产线中，废气处理规定首先要求企业对生产工艺全过程产生的各类废气进行精确识别与分类收集。磁控溅射工艺在抽真空、背底抽气、溅射沉积及本底清洗阶段会产生多种污染物，主要包括：第一，工艺尾气中的残余反应气体如氧气、氮气、氢气以及作为工作气体的高纯氩气，虽本身多为惰性或无害，但在反应溅射中使用含氟气体（如CF?、SF?）或含氯气体（如BCl?、Cl?）时，会在真空腔体放空或再生吹扫阶段产生少量氟化氢、氯化氢等酸性腐蚀性气体；第二，在采用有机溶剂清洗基片或靶材预处理工段，以及部分光刻胶剥离、封装胶