CN119836684A 键合层和方法 (东京毅力科创株式会社).docxVIP

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  • 2026-07-07 发布于山西
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CN119836684A 键合层和方法 (东京毅力科创株式会社).docx

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119836684A

(43)申请公布日2025.04.15

(21)申请号202380063881.9

(22)申请日2023.08.04

(30)优先权数据

63/426,1402022.11.17US18/320,7812023.05.19US

(85)PCT国际申请进入国家阶段日2025.03.05

(86)PCT国际申请的申请数据

PCT/US2023/0295052023.08.04

(87)PCT国际申请的公布数据

WO2024/107246EN2024.05.23

(71)申请人东京毅力科创株式会社地址日本

(72)发明人斯克特·莱费夫雷

亚当·吉尔迪亚星野聪彦

索菲娅·马德隆三村勇之

(74)专利代理机构北京集佳知识产权代理有限

公司11227

专利代理师陈炜

(51)Int.Cl.

H01L21/67(2006.01)

权利要求书2页说明书11页附图24页

(54)发明名称

键合层和方法

(57)摘要

CN119836684A一种方法,其包括在第一衬底上提供第一键合表面,该第一键合表面包括可热固化或可光固化的键合层。该方法包括在第二衬底上提供第二键合表面。该方法包括通过使该第一键合表面与第二键合表面之间进行物理接触来将

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