CN120253372A 电子束敏感材料横截面的透射电镜超薄试样制备方法 （浙江大学）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN120253372A

(43)申请公布日2025.07.04

(21)申请号202510299268.8

(22)申请日2025.03.13

(71)申请人浙江大学

地址310058浙江省杭州市西湖区余杭塘

路866号

(72)发明人林清云杨春霞王天宇丁素娟郑永嘉项荣金传洪曾跃武

王勇

(74)专利代理机构北京金咨知识产权代理有限

公司11612

专利代理师宋教花

(51)Int.Cl.

G01N1/28(2006.01)

G01N23/04(2018.01)

H01J37/26(2006.01)

权利要求书2页说明书9页附图5页

(54)发明名称

电子束敏感材料横截面的透射电镜超薄试

样制备方法

(57)摘要

CN120253372A本发明提供一种电子束敏感材料横截面的透射电镜超薄试样制备方法，包括：对电子束敏感材料采用电子束成像技术，选取特定区域作为待提取样品区域；采用电子束和/或离子束在待提取样品区域的表面沉积保护层；利用高能离子束轰击待提取样品区域，从待提取样品区域中提取出电子束敏感材料横截面样品，将提取出的样品固定至金属支架；用聚焦离子束对提取出的样品进行预减薄处理，得到样品厚度被减至第一厚度以下的第一减薄样品；将第