希瓦氏菌-氧化石墨烯复合膜：制备工艺与Cr(Ⅵ)还原效能的深度剖析.docxVIP

希瓦氏菌-氧化石墨烯复合膜：制备工艺与Cr(Ⅵ)还原效能的深度剖析

一、引言

1.1研究背景与意义

随着工业化进程的加速，重金属污染已成为全球关注的环境问题之一。铬（Cr）作为一种常见的重金属污染物，广泛应用于电镀、皮革、冶金、化工等行业。然而，这些行业排放的含铬废水、废气和废渣，使得大量的铬进入环境，造成了严重的铬污染。铬在环境中主要以三价铬（Cr(Ⅲ)）和六价铬（Cr(Ⅵ)）两种形态存在，其中Cr(Ⅵ)具有高毒性、强氧化性和致癌性，其毒性比Cr(Ⅲ)高出100倍。Cr(Ⅵ)可通过食物链进入人体，对人体的呼吸系统、消化系统、泌尿系统和皮肤等造成严重损害，引发如肺癌、胃肠道疾病、肾功能衰竭和皮肤溃疡等疾病，严重威胁人类健康。

传统的铬污染修复方法，如化学沉淀法、离子交换法、吸附法和膜分离法等，虽然在一定程度上能够去除环境中的铬，但这些方法往往存在成本高、操作复杂、易产生二次污染等问题。近年来，微生物修复技术因其具有环境友好、成本低、效果好、无二次污染等优点，成为铬污染修复领域的研究热点。

希瓦氏菌（Shewanella）是一类革兰氏阴性菌，具有强大的呼吸多样性和代谢灵活性，能够利用多种电子受体进行呼吸作用，包括重金属离子如Cr(Ⅵ)。希瓦氏菌可以通过细胞表面的还原酶将Cr(Ⅵ)还原为Cr(Ⅲ)，从而降低铬的毒性。然而，希瓦氏菌在实际应用中仍