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- 2026-08-06 发布于北京
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从芯暮微装出发,看好COWOS-L封测、半导体材料高景气
CoWoS-L方案有望成为先进封装主流工艺
前几代CoWoS产品开发出双掩模和四掩模的光刻拼接技术,可将硅互联器的面积扩大到3个完整reticlesize,但将CoWoS-S扩展到四倍reticlesize或更大,在生产和可靠性方面极具挑战性。而CoWoS-L架构被证明是解决CoWoS封装扩展所带来生产问题的可行方案,创新结构为CoWoS-L带来注入优势,例如无掩模缝合和良率。台积电产能预估到2026年年底CoWoS-L占2.5D封装产能的50%以上,2027年占比预计将提高至70%。
芯碁微装先进封装设备主要应用于CoWoS-L的中介层曝光(不应用于CoWoS),下游客户包含长电、通富、甬矽等国内头部封装厂,目前均已完成设备的导入。根据芯碁港股招股说明书预计,全球先进封装领域直写光刻设备的市场规模预计将从2024年的2亿元增长至2030年的31亿元,CAGR达55.1%,未来5年市场有望扩容15倍。
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