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- 2026-08-07 发布于河北
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1.(2024·全国甲卷)下列过程对应的离子方程式正确的是()
A.用氢氟酸刻蚀玻璃:SiO2-+4F-+6H+===SiF↑+3HO
342
B.用三氯化铁溶液刻制覆铜电路板:2Fe3++3Cu===3Cu2++2Fe
C.用硫代硫酸钠溶液脱氯:SO2-+2Cl+3HO===2SO2-+4Cl-+6H+
23223
D.用碳酸钠溶液浸泡锅炉水垢中的硫酸钙:CaSO+CO2-===CaCO+SO2-
4334
答案:D
解析:用氢氟酸刻蚀玻璃时,正确的化学方程式为SiO+4HF===SiF↑+2HO,A错误;三
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