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- 2026-08-10 发布于上海
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Mn掺杂ZnO外延薄膜:局域结构与稀磁特性的深度剖析
一、引言
1.1研究背景
在材料科学的蓬勃发展中,氧化锌(ZnO)凭借其优良的物理性能,成为了众多研究的焦点。ZnO作为一种重要的宽禁带半导体材料,室温下禁带宽度约为3.37eV,具有较大的激子束缚能(约为60meV)。这一特性使得ZnO在室温下能够实现高效的激子复合发光,在光电器件领域展现出巨大的应用潜力,如紫外发光二极管、激光二极管等。其独特的晶体结构赋予了它良好的压电性能,在传感器领域发挥着重要作用,可用于压力传感器、加速度传感器等的制备。
随着对材料性能要求的不断提高,Mn掺杂ZnO外延薄膜作为一类具有磁性和半导体特性的复合材料,逐渐走进了科研人员的视野,并在多个领域展现出广泛的应用前景。在磁存储领域,随着信息时代的飞速发展,数据存储需求呈爆炸式增长,对存储密度和速度的要求也越来越高。Mn掺杂ZnO外延薄膜的磁性特性使其有望成为新型磁存储介质,为提高存储密度和读写速度提供了新的可能。其与半导体特性的结合,使得在同一器件中实现数据的存储和处理成为可能,有助于推动磁存储器件向小型化、高速化和多功能化方向发展。在传感器领域,由于ZnO本身的压电和半导体特性,结合Mn的磁性,Mn掺杂ZnO外延薄膜能够对多种物理量和化学量产生响应,可用于制备多功能传感器。例如,在生物传感器中,利用其磁性
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