CN119153320A 半导体器件及其制作方法 (合肥晶合集成电路股份有限公司).pdfVIP

  • 0
  • 0
  • 约1.55万字
  • 约 14页
  • 2026-08-21 发布于重庆
  • 举报

CN119153320A 半导体器件及其制作方法 (合肥晶合集成电路股份有限公司).pdf

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119153320A

(43)申请公布日2024.12.17

(21)申请号202411650381.8

(22)申请日2024.11.19

(71)申请人合肥晶合集成电路股份有限公司

地址230012安徽省合肥市新站区合肥综

合保税区内西淝河路88号

(72)发明人朱会超蔡富吉王文轩

(74)专利代理机构上海思微知识产权代理事务

所(普通合伙)31237

专利代理师宋艳

(51)Int.Cl.

H01L21/266(2006.01)

H01L21/02(2006.01)

H01L21/324(2006.01)

您可能关注的文档

文档评论(0)

1亿VIP精品文档

相关文档