2026年电子工程三极管反向击穿电压考试题及答案
一、单项选择题(每题3分,共15分)
1.某硅三极管在300K时测得集电结反向击穿电压为75V,当温度升高至400K时,击穿电压升至82V。该击穿现象最可能由哪种机制主导?
A.齐纳击穿
B.雪崩击穿
C.热电击穿
D.隧道击穿
2.关于三极管反向击穿电压的影响因素,下列表述错误的是?
A.集电区掺杂浓度越低,耗尽层越宽,雪崩击穿电压越高
B.基区宽度增加会导致BVCEO(发射极开路时集电-射极击穿电压)降低
C.齐纳击穿通常发生在掺杂浓度较高(10^18cm^-3)的PN结中
D.表面
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