2026年电子工程三极管反向击穿电压考试题及答案.docx

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2026年电子工程三极管反向击穿电压考试题及答案

一、单项选择题(每题3分,共15分)

1.某硅三极管在300K时测得集电结反向击穿电压为75V,当温度升高至400K时,击穿电压升至82V。该击穿现象最可能由哪种机制主导?

A.齐纳击穿

B.雪崩击穿

C.热电击穿

D.隧道击穿

2.关于三极管反向击穿电压的影响因素,下列表述错误的是?

A.集电区掺杂浓度越低,耗尽层越宽,雪崩击穿电压越高

B.基区宽度增加会导致BVCEO(发射极开路时集电-射极击穿电压)降低

C.齐纳击穿通常发生在掺杂浓度较高(10^18cm^-3)的PN结中

D.表面

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