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半导体光刻胶的分子结构精准调控工艺

半导体是支撑现代信息社会发展的核心基础性产业，而光刻工艺是半导体芯片制造流程中占比最高、难度最大的核心环节，承担着将电路图形从掩模版转移到硅片表面的关键功能。光刻胶作为光刻工艺中承担图形记录与转移功能的核心耗材，其性能直接决定了光刻工艺的分辨率、良率与可靠性，是公认的半导体材料领域技术壁垒最高的产品之一。与普通电子化学品不同，光刻胶的性能表现并非由组分的宏观配比决定，而是从根源上受到分子尺度的化学结构、聚集态结构的影响，小到一个官能团的位置偏差、一个分子团簇的形成，都可能导致纳米尺度的图形缺陷，造成整个芯片的失效。因此，实现光刻胶分子结构的精准调控，是突破高