基于阻抗控制的机器人抛光恒力跟踪与表面粗糙度控制.docxVIP

PAGE2

基于阻抗控制的机器人抛光恒力跟踪与表面粗糙度控制

摘要

随着制造业对产品表面质量要求的日益提高，传统手工抛光工艺已难以满足高精度、高一致性的生产需求。工业机器人虽然具备高重复定位精度，但在处理具有形貌偏差的复杂曲面工件时，其刚性位置控制特性极易导致抛光压力波动，进而影响表面粗糙度的一致性。本课题针对上述痛点，设计并实现了一套基于阻抗控制的机器人抛光恒力跟踪系统。该系统集成了高精度六维力传感器，通过构建阻抗控制模型动态调节机器人末端执行器的接触力，实现了对工件形貌偏差的自适应补偿，有效保证了抛光过程的均匀性。

本文首先分析了机器人抛光作业的工艺需求与现有技术瓶颈，确立了以力控技术为核心的总体设计方案。在详细设计阶段，推导了阻抗控制算法的数学模型，设计了力/位混合控制架构，并规划了机器人抛光轨迹生成策略。系统实现阶段，基于ROS（RobotOperatingSystem）搭建了软件控制平台，完成了力数据采集、滤波处理及阻抗控制算法的代码编写。最后，通过搭建实验平台进行系统测试，验证了系统在恒力跟踪精度与表面粗糙度控制方面的有效性。实验结果表明，系统在处理曲面工件时，接触力波动控制在±2

第一章绪论

1.1研究背景

在现代制造业中，抛光作为提升产品表面质量、外观美感及耐腐蚀性的关键工序，广泛应用于航空航天叶片、医疗器械、精密模具及3C电子产品等领域。然而，抛光作