CN119852040A 一种嵌入式绝缘子涂层结构及其制备方法和应用 （重庆大学）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119852040A

(43)申请公布日2025.04.18

(21)申请号202510029928.0

(22)申请日2025.01.08

(71)申请人重庆大学

地址400030重庆市沙坪坝区沙正街174号

(72)发明人成立陶博杨丽君赵学童廖瑞金

(74)专利代理机构北京方圆嘉禾知识产权代理

有限公司11385

专利代理师卢月星

(51)Int.Cl.

H01B17/50(2006.01)

H01B19/04(2006.01)

权利要求书1页说明书7页附图9页

(54)发明名称

一种嵌入式绝缘子涂层结构及其制备方法

和应用

(57)摘要

CN119852040A本发明提供了一种嵌入式绝缘子涂层结构及其制备方法和应用，涉及绝缘材料技术领域。本发明提供的嵌入式绝缘子涂层结构，包括绝缘子、设置在所述绝缘子表面的多个凹槽、填充在所述凹槽内及涂覆于绝缘子表面的室温硫化硅橡胶防污闪涂层；所述绝缘子为亲水材料。本发明提供的嵌入式绝缘子涂层结构中凹槽内的RTV涂层(即室温硫化硅橡胶防污闪涂层)和表面的RTV涂层是一个整体，同时，凹槽内的RTV涂层嵌入到绝缘子基底，成功形成机械联锁结构，增大了RTV涂层整体的附着力与耐久性。本发明提供的嵌入式绝缘子涂层结构解