CN119852168A 基板处理方法以及基板处理装置 （株式会社斯库林集团）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119852168A

(43)申请公布日2025.04.18

(21)申请号202510068592.9

(22)申请日2019.12.30

(30)优先权数据

2019-0123112019.01.28JP

(62)分案原申请数据

201911395272.52019.12.30

(71)申请人株式会社斯库林集团地址日本京都府

(72)发明人奥谷学大须贺勤东克荣

阿部博史吉原直彦

(74)专利代理机构隆天知识产权代理有限公司

72003专利代理师宋晓宝

(51)Int.Cl.

H01L21/02(2006.01)

H01L21/67(2006.01)

权利要求书2页说明书13页附图12页

(54)发明名称

基板处理方法以及基板处理装置

(57)摘要

CN119852168A本发明提供一种基板处理方法以及基板处理装置，在基板处理中，向被保持为水平状态的基板(9)的上表面(91)供给第一处理液，形成覆盖整个上表面(91)的第一处理液的液膜(81)。另外，对基板(9)进行加热，在上表面(91)上的第一处理液的液膜(81)与上表面(91)之间形成第一处理液的蒸气层(82)。然后，通过向基板(9)的上表面(91)供给第二处理液，从上表面(91)去除第一处理