SJT 12216-2026 电子级三甲硅烷基胺 标准立项发展报告.docx

SJ/T12216-2026电子级三甲硅烷基胺标准立项发展报告

StandardizationDevelopmentReport:ElectronicGradeTrisilylamine

摘要

随着集成电路制程不断向特征尺寸小于28纳米及以下节点演进，高端介质薄膜沉积工艺对前驱体材料的纯度、组分一致性与杂质控制提出了极为苛刻的要求。三甲硅烷基胺作为下一代原子层沉积（ALD）和化学气相沉积（CVD）工艺中制备高品质氮化硅（SiNx）薄膜的关键前驱体材料，其国产化进程直接关系到半导体供应链的安全与稳定。然而，长期以来，国内缺乏统一的电子级三甲硅烷基胺产品标准，导致市场产品质量参差不