CN119463849A 一种具有高紫外吸收的量子点、其制备方法及应用 (上海先光应用材料技术有限公司).pdfVIP

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  • 2026-09-15 发布于重庆
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CN119463849A 一种具有高紫外吸收的量子点、其制备方法及应用 (上海先光应用材料技术有限公司).pdf

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119463849A

(43)申请公布日2025.02.18

(21)申请号202411560111.8B82Y40/00(2011.01)

B82Y20/00(2011.01)

(22)申请日2024.11.04

B82Y30/00(2011.01)

(71)申请人上海先光应用材料技术有限公司H10F19/80(2025.01)

地址201400上海市奉贤区中国(上海)自

由贸易试验区临港新片区新杨公路

860号10幢

(72)发明人

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