ISO 193832026 原子层沉积 原子层沉积前驱体的化学特性和相关工艺规范标准立项发展报告.docxVIP

原子层沉积原子层沉积前驱体的化学特性和相关工艺规范标准立项发展报告

StandardizationDevelopmentReport:AtomicLayerDeposition—ChemicalCharacteristicsandRelatedProcessSpecificationsofAtomicLayerDepositionPrecursors

摘要

原子层沉积（AtomicLayerDeposition,ALD）作为一种基于自限制表面化学反应的纳米薄膜制备技术，凭借其亚纳米级厚度控制精度、优异的台阶覆盖率及三维共形性，已成为半导体制造、新能源器件、光学镀膜及催化材料等前沿领域的核心工艺手段。前驱体的化学特性直接决定了ALD工艺的窗口范围、薄膜纯度及生长速率，然而长期以来国际范围内缺乏统一的测试标准和工艺规范，导致不同研究机构与生产企业之间的数据可比性差，严重制约了ALD技术的跨行业推广与产业化进程。在此背景下，国际标准化组织（ISO）于2026年6月正式发布ISO19383:2026《原子层沉积原子层沉积前驱体的化学特性和相关工艺规范》。本标准是ALD领域首批国际标准之一，系统地规定了前驱体的挥发性、热稳定性、反应活性等核心化学特性的测试方法，明确了饱和剂量、净化吹扫时间、沉积温度窗口等关键工艺参数的优化规范，并建立了前驱体质