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紫外与SC1联用湿法去除蚀刻残留物研究.pdfVIP

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  • 2026-09-21 发布于北京
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紫外与SC1联用湿法去除蚀刻残留物研究.pdf

    固态

    现象

    第195卷

    (2013年)

    第114‑118页

    ©

    (2013)

    发布日期：

    Trans

    Tech社

    2012‑12‑27

    doi:10.4028/

    通过紫外线照射与SC1工艺联用湿法去除蚀刻后残留物

    aabba

    E.

    凯斯特斯,Q.

    T.

    乐,I.

    西姆斯,K.

    纳福斯,H.

    斯特鲁伊夫

    和

    S.

    德

    a

    a比利时鲁汶3001

    Kapeldreef

    75号Imec研究

    b

    院东京电子（IMEC比利时分支机构）

    kesterse@imec.be

    ：蚀刻后残留物、紫外线处理、SC1溶液、低介电常数2.0材料、后端制程

    引言

    在后道工序（BEOL）中，刻蚀过程中沉积在介电质侧壁上的聚合物

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