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2026年初级电子材料有机合成技术试题

一、单选题（共10题，每题2分，合计20分）

1.在有机合成中，用于保护氨基基团且在酸性条件下容易脱保护的常用保护基是？

A.Boc基

B.Fmoc基

C.Acetamidomethyl（AcM）基

D.Trityl（Tri）基

2.在合成液晶材料时，常用的双键活性化方法不包括？

A.Simmons-Smith反应

B.Wittig反应

C.Heck反应

D.Diels-Alder反应

3.电子材料中常用的聚酰亚胺（Polyimide）的合成通常涉及？

A.醛醇缩聚反应

B.酰亚胺环化反应

C.酯交换反应

D.醚化反应

4.在有机光电材料中，三芳基胺类化合物（如TFA）的合成通常以什么作为关键中间体？

A.苯肼

B.苯胺

C.萘胺

D.吡啶胺

5.用于制备有机半导体薄膜的旋涂技术中，溶剂的选择需考虑？

A.高蒸气压

B.高粘度

C.高极性

D.高毒性

6.在有机合成中，用于控制反应区域选择性的常用策略是？

A.加热升温

B.使用区域选择型催化剂

C.增加反应时间

D.使用过量底物

7.电子材料中常用的有机半导体聚噻吩（PTT）的合成通常涉及？

A.硅氢化反应

B.马氏加成反应

C.环化加成反应

D.阿伦尼乌斯重排反应

8.在