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光学石英玻璃研磨清洗工艺

我从事光学石英玻璃加工快十五年了，这些年看着这个材料从只有少数高端领域用到现在，走进半导体消费电子、天文观测、医疗设备等一堆领域，最大的感受就是，石英玻璃本身的性能再好，最后能不能发挥作用，全看研磨和清洗这两道工序。磨得不到位，面型精度不够，做出来的镜头对焦虚、透光差；洗不干净，哪怕有一个微米的残留杂质，都可能让整个器件报废，之前我们给客户做的一批深紫外光学元件，就因为一个小杂质没洗干净，退回来整批返工，损失不小。今天我就结合实际生产的经验，把整个工艺从头到尾理清楚，每一个环节的要点和容易踩的坑都说明白。

1工艺整体要求与前期准备

在动手加工之前，得先把整体要求理清楚，也把前期该做的准备工作做足，不然后续出问题再改就来不及了。

1.1工艺核心要求

光学石英玻璃因为透光范围宽、热膨胀系数极低、化学稳定性好，才成为高端光学和半导体领域不可替代的材料，对应的研磨清洗也有比普通玻璃高得多的要求。研磨环节的核心要求，一是要达到设计要求的面型精度，一般民用光学元件要求平面度不超过1/4波长，高端深紫外或者航天用的要达到1/10甚至1/20波长；二是表面粗糙度要够低，不能有肉眼可见的划痕、麻点、崩边，还要尽量减少亚表面的损伤层，不然长时间使用会出现应力开裂。清洗环节的核心要求更细，不仅要去掉研磨过程留下的磨粒、抛光盘碎屑、研磨液有机物残留，还要控制表面的金属离子残留