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固态电池的电解质层沉积技术：从粉末压制到气相沉积（PVD/CVD）的薄膜化竞争

摘要

本报告聚焦动力电池制造领域，对固态电池电解质层的三种主流薄膜制备技术——冷压烧结、等离子喷涂及原子层/化学气相沉积（ALD/CVD）——展开系统性竞争分析。

核心发现表明，固态电解质薄膜化正经历从“块体减薄”向“原位生长”的技术范式转移。冷压烧结作为当前主流技术，在厚度控制上已逼近物理极限，难以稳定实现低于50μm的薄膜。等离子喷涂凭借较高的沉积速率和成本优势，在准固态或厚膜场景中占据一席之地。而ALD/CVD技术凭借原子级的厚度控制精度（5μm）和优异界面结合力，正成为全固态薄膜电池制造的