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- 2026-10-31 发布于浙江
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字木交;i;i
理论,砩发,设计,翻造
得到应用。但目前由于很难使氧化膜的厚度保持恒定的的ELID系统中,主要影响氧化膜生成的因素为脉冲电源
期望值,造成加工效率很低,无法大规模应用到实际生的工作电流、工作电压、频率、占空比。
产,只能在一些高精尖领域使用。本文探讨ELID磨削过C.Zhang对不同工作
程中氧化膜的生成规律及其影响因素,并提出了新的控电流下生成氧化膜和对基
制方法对氧化膜的厚度变化进行计算机自动控制,使氧体的侵蚀
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