微弧氧化技术资料中文版.pptxVIP

微弧氧化;

Dateofsubmission;

MicroarcOxidation

technologyapplication;

MicroarcOxidationfor

producttype;

开发微弧氧化目的:

1.实现手机，笔记本金属外壳表面陶瓷化外观装饰。

2.绿色环保新工艺，无公害涂层。金屬表面氧化層具有更好的物理化學特性。改善材料的耐磨、耐蚀、耐热冲击及绝缘性能的作用

3.增加产品价值感;

1.微弧氧化处理的技术原理

微弧氧化简介

微弧氧化(简称MAO),它是在AL、Mg、Ti等轻合金表面利用等离子体化学、电化学、热化学、扩散以及高温相变的共同作用，产生弧光放电现象，进而在金属表面原位生长出一层类似陶瓷性质的氧化膜，以起到改善材料的耐磨、耐蚀、耐热冲击及绝缘性能的作用。;

(a)在“1”处放电影响下微弧氧化涂层的半球形透镜状胞状结构的形成

(b)在“1”处放电衰减后的“2”处类似弹坑口结构的形成

微弧氧化膜的形成不是一个典型的核形成和长大的过程，而是一种亚单层生长模型，它是“成膜→击穿→熔化→烧结→再成膜……”的多次循环过程，在微弧氧化初期形成的主要是致密层，疏松层则主要是在后期形成。;

微弧氧化膜层生长特点

a.陶瓷结构特征:置于电解质中的铝，镁，钛合金工件，其表