场致发射和电致发射显示技术的原理、区别及未来发展趋势-信息材料器件技术发展研究课件PPT.pptxVIP

场致发射和电致发射显示技术的原理、

区别及未来发展趋势;5小结;1显示器简介;非主动发光型显示则是指本身不发光,而用电路控制它对外来光的反射和透射,借助外界光源(如背光源等)实现图像显示的技术;PDP;场致发射显示具有无阴极功耗、无预热延迟，响应速度非常快，不大于20μs、可高度集成化、发射电流密度大、体积小和电压低等优点。;2场致发射显示技术;FED结构;2.1场致发射发光原理;热电子发射;固体表面施加电场后表面势垒高度降低，势垒的宽度变窄，这使得电子发生隧穿效应成为可能。通常，固体发生场发射需要很强的电场，这也是场发射阴极的必备要素，研究表明场发射阴极表面电子发生所需场强至少超过109v/m大小电场。;F-N理论;2.2FED阴极材料应具备的条件;FED采用的是场致发射冷阴极，众多的阴极发射体以阵列状排列，每一个像素对应于一个或若干个发射体。;FED工作原理图;2.4FED分类;2.5FED在平板显示领域的优势;2.6FED阴极发射体的研究;Spindt结构FED;金刚石薄膜发射体;弹道电子表面发射显示（BSD）;表面传导发射显示器（SED）;生成了PdO膜的金属电极间距只有4～6nm。当金属电极间加上十几伏的电压后，将形成超高电场，氧化钯膜中的电子会被牵引出来，形成电子发射。由于金属电极是沿着同一块玻璃基板排列，所以刚发射出来的电子是在玻璃基板表面传导的，