第七章：溅射物理.pptVIP

* 第七章：溅射物理 (Sputtering Physics) 被溅射出来的原子 E0 , M1, Z1 主要内容： 溅射过程的一般描述 Sigmund 的溅射理论 溅射产额的半经验公式 热钉扎溅射 溅射过程的计算机模拟 溅射过程对表面状态的影响 7.1 溅射过程的一般描述 一、溅射物理的发展史 ? 1853年Grove就观察到了溅射现象，发现在气体放电室的器壁上有一层金属沉积物，沉积物的成份与阴极材料的成份完全相同。但当时他并不知道产生这种现象的物理原因 。 ? 1902年，Goldstein 才指出产生这种溅射现象的原因是由于阴极受到电离气体中的离子的轰击而引起的，并且他完成了第一个离子束溅射实验。 到了1960年以后，人们开始重视对溅射现象的研究，其原因是它不仅与带电粒子同固体表面相互作用的各种物理过程直接相关，而且它具有重要的应用，如核聚变反应堆的器壁保护、表面分析技术及薄膜制备等都涉及到溅射现象。 1969年，Sigmund 在总结了大量的实验工作的基础上，对Thompson的理论工作进行了推广，建立了原子线性级联碰撞的理论模型，并由此得到了原子溅射产额的公式。 1974年，H.H. Andersen 和H. L. Bay 研究（实验）了低能重离子辐照固体表面，可以产生非线性溅射现象，通常称为“热钉扎” (thermalized spike) 效应。 二、溅射产额的定义 溅射过程可以用溅射产额这个物理量来定量地描述，其定义为平均每入射一个粒子从靶表面溅射出来的原子数，即 溅射产额依赖于靶材料的结构、成份及表面形貌，同时还与入射离子的能量、电荷态和种类有关。 一般地，溅射产额随入射离子能量的变化有如下特征： （1）存在一个溅射阈值，阈值能量一般为20~100 eV。当入射离子的能量小于这个阈值时，没有原子被溅射出来。通常当入射离子的能量为1~10 keV时，溅射产额可以达到一个最大值。 （2）当入射离子的能量超过10 keV 时，溅射产额开始随入射离子的能量增加而下降。 最大值 阈值 入射离子的能量 对于低能离子溅射过程，能离子同靶原子之间的相互作用主要是原子核之间的弹性碰撞，尤其是对金属靶材料。金属中电子的驰豫时间约为10-19秒，而对于一个能量为10keV的Ar离子，在金属中穿行1mm所需的时间约为10-13秒，这样电子在这么短的时间内获得的能量不足以造成靶原子的移位。同样在低能情况下，靶原子之间的相互作用也主要是弹性碰撞。也就是说，对于低能离子产生的溅射现象，主要是由原子之间的弹性碰撞过程造成的。因此，这种溅射也被称为撞击溅射（knock-on sputtering）。 三、撞击溅射的分类 （１）单一撞击溅射，见图 (a)。在离子同靶原子的碰撞过程中，反冲原子得到的能量比较低，以至于它不能进一步地产生新的反冲原子而直接被溅射出去。单一撞击溅射是在入射离子的能量为几十电子伏特范围内，且离子的能量是在一次或几次碰撞中被损失掉． 图 (a)单一撞击溅射示意图 （２）线性碰撞级联溅射，见图(b)。初始反冲原子得到的能量比较高，它可以进一步地与其它静止原子相碰撞，产生一系列新的级联运动。但级联运动的密度比较低，以至于运动原子同静止原子之间的碰撞是主要的，而运动原子之间的碰撞是次要的。对于线性碰撞级联，入射离子的能量范围一般在keV-MeV，且级联运动主要是在离子的路径周围产生的。 图 (b) 线性碰撞级联溅射示意图 (3) 热钉扎溅射，见图 (c)。反冲原子的密度非常高，以至于在一定的区域内大部分原子都在运动。热钉扎溅射通常是由中等能量的重离子轰击固体表面而造成的。 图 (c) 热丁扎线性碰撞级联溅射示意图 　　一般地说，溅射产额 正比于做反冲运动的原子的个数。对于单一撞击溅射，反冲原子的个数正比于碰撞截面；在线性碰撞级联中，反冲原子的个数正比于离子在单位路径上沉积的能量，即核阻止本领；而对于热钉扎溅射，反冲原子的个数则正比于离子在单位体积中沉积的能量。 7.２ Sigmund的线性级联碰撞理论 分析：离子以能量及角度入角射进靶的表面层，并与靶原子发生一系列的弹性碰撞（忽略靶电子的激发）。同时靶原子在碰撞过程中得到能量后做反冲运动，并能引起其它原子做反冲运动。因此，在入射离子的路径周围形成一系列的做碰撞级联运动的原子。如果某一做级联运动的原子向着固体表面方向运动，且其动能大于表面的束缚能时，则可能克服表面的约束而形成溅射原子。很显然，溅射产额的大小与参加级联运动的原子个数成正比、而原子做级联运动所需的能量来自于入射离子的能量损失。因此，可以说溅射产额的大小与入射离子