氮化钽薄膜电阻的制备与应用研究.docVIP

分类号：TG174.442 U D C：D10621-408-(2008)2840-0 密 级：公 开 编 号：2004051119 氮化钽薄膜的制备与应用研究 申请学位专业： 电子科学与技术 申请学位类别： 工学学士 指导教师姓名(职称)： 魏昭荣(副教授) 论文提交日期： 2008年06月10日 氮化钽薄膜的制备与应用研究摘 要 氮化钽薄膜是一种的薄膜，具有电阻温度系数抗氧化腐蚀性能好，高温硬度，化学稳定性好等优点，广泛用于对环境、温度、时间变化等有严格要求的高可靠性电子设备中本文了本文的研究结果将为进一步开发应用氮化钽薄膜电阻打下基础。 关键词：氮化钽薄膜制备Preparation and Application of Tantalum Nitride Film Resistor Abstract TaN (Tantalum Nitride) film is an excellent film resistor because of the low- temperature coefficient, anti-oxidation, high-hardness and stability. TaN film resistor is widely used in the electronic requirements which are strict of the working reliability, environmental temperature and time changes. In this paper, the preparing principle of TaN film resistor has been introduced; the preparing methods and crafts have been compared roundly. The performance and application have been studied systemly. All the results will lay certain foundation for the further application of the TaN film resistor. Key words: TaN film resistor; Preparation; Application 目 录 论文总页数：17页 1 引言 1 1.1 薄膜材料的发展 1 1.2 氮化钽薄膜的发展和用途 2 1.3 氮化钽薄膜电阻的研究意义 2 2 氮化钽薄膜的具体制备方法以及分析 2 2.1 真空蒸镀法 2 2.2 溅射法 4 2.3 离子束沉积技术（Ion-Beam Deposition,IBD） 7 3 氮化钽薄膜电阻的制备和电阻分析 8 3.1 IBAD法制备氮化钽薄膜电阻 8 3.2 氮化钽薄膜电阻性能分析 10 3.2.1 电阻分析 10 3.2.2 应力分析 11 3.2.3 硬度分析 12 3.3 小结 12 4 氮化钽薄膜电阻的应用研究 12 4.1 在通信行业的应用 12 4.2 在其他行业的应用 13 结 论 14 参考文献 15 致 谢 16 声 明 1 引言 1.1 薄膜材料的发展 近年来，材料科学取得了长足的进展，各种优异性能的新材料层出不穷，在材料科学的各分支中，薄膜材料科学的发展一直占据着极为重要的低位。薄膜材料是相对于体材料而言的，是人们采用特殊的方法，在体材料的表面沉积或制备的一层性质于体材料完全不同的物质层，薄膜材料以其许多独特的微观结构和物理、化学性能引起了人们的极大关注，正被广泛应用于工业生产和科学技术的各个领域。薄膜材料自身也正向功能化、复合化、低维化发展，与此相适应的薄膜材料制备新工艺、新技术也层出不穷，薄膜材料已成为材料工业乃至整个社会可持续发展的重要方向。就薄膜材料自身而言， 薄膜一般定义为膜层厚度低于0.1～0.3m的膜[1]。 随薄膜厚度的减小，其微结构和性能明显不同于体材料，如可获得透明导电薄膜、有机发光薄膜，光电转换薄膜，巨磁阻薄膜，垂直磁记录薄膜，具有特殊综合性能的人造金刚石薄膜，具有优良机械性能的金属陶瓷多层复合薄膜，具有优异结构和功能性能的非晶薄膜，对各种环境因素声、光、电、力各种气体)具有敏感特性的传感薄膜等。这方面的研究为研究新一代的材料提高依据和基础，具有重大的理论和实际意义。 薄膜材料在当前社会应用范围越来越广，在高新技术中的地位越来越重要，要求制作更多的性能优异，功能独特的各种薄膜，极大地刺激和促进了薄膜制造技术的不断进步与发展，在薄