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第四章 平面机构的力分析 基本内容 基本要求 基本内容 机构力分析的目的 机构力分析的方法 构件的惯性力、惯性力偶矩 运动副中的摩擦力、总反力 构件组的静定条件 平面机构动态静力分析 基本要求 掌握构件中的惯性力、惯性力偶矩的确定的方法 能够确定运动副中的摩擦力、总反力 掌握并运用构件组的静定条件进行平面机构动态静力分析 第四章 平面机构的力分析 §4-1 机构力分析的目的、任务和方法 §4-2 构件惯性力的确定 §4-3 运动副中摩擦力的确定 §4-4 不考虑摩擦时机构的力分析 §4-5 考虑摩擦时机构的受力分析 §4-1 机构力分析的目的、任务和方法 一、机构力分析的目的: 确定运动副中的反力:运动副两元素接触处的作用力。 运动副反力的大小和变化规律,用于: 计算机构中各零件的强度 决定运动副中的摩擦、磨损 确定机构的效率及其运转时所需的功率 一、机构力分析的目的: 确定机构原动件按给定规律运动时需加于机械上的平衡力(或平衡力矩)。 平衡力(或平衡力矩):与作用在机械上的已知外力及按给定规律运动时与各构件的惯性力(惯性力矩)相平衡的未知外力(外力矩)。 求得机械的平衡力(或平衡力矩),对于确定原动机的功率,或根据原动机的功率确定机械所能克服的最大工作载荷等是必不可少的。 二、机构力分析的方法 低速机械,惯性力小,只作静力分析; 高速、重型机械,惯性力大: 动态静力分析: 将惯性力视为一般外力施加于产生该惯性力的构件上; 用静力学方法对其分析; 方法:图解法和解析法。 三、作用在机械上的力 驱动力:驱使机械运动的力。 与其作用点的速度方向相同或成锐角; 所作的功为正功,称为驱动功或输入功。 阻抗力:阻止机械运动的力。 阻抗力与其作用点的速度方向相反或成钝角; 所作的功为负功,称为阻抗功。 有效阻力,即工作阻力。机械在生产过中为了改变工作物的外形、位置或状态等所受到的阻力,克服有效阻力所完成的功称有效功或输出功。 有害阻力,即非生产阻力。克服这类阻力所作的功是一种纯粹的浪费,故称为损失功。 §4-2 构件惯性力的确定 为使机构按给定运动规律运动,需确定加在机构上的平衡力(平衡力偶): 求与作用在机械上的已知外力以及当该机械按给定运动规律运动时各构件的惯性力相平衡的未知外力。 求各构件的惯性力; 确定运动副中的反力。 一、一般力学方法 1、作平面复合运动的构件 惯性力系简化为加在质心s上的惯性力PI和惯性力偶矩MI 2、作平面移动的构件 构件作平面匀速移动,其惯性力和惯性力偶矩都为零。 构件作平面变速移动,只有一个加在构件质心s上的惯性力。 3、绕定轴转动的构件 绕通过质心的定轴转动的构件(如齿轮、飞轮等): 质心的加速度为零,惯性力为零。 当构件变速转动时,将产生一惯性力偶矩 绕不通过质心S的定轴转动的构件(如曲柄、凸轮等): 构件匀速转动,则仅有离心惯性力 构件变速转动,产生惯性力及惯性力偶矩, 二、质量代换法 质量代换法:按一定条件将构件的质量假想地用集中于若干选定点上的集中质量来代换的方法。 进行质量代换时必须满足的三个条件: 1)代换前后构件的质量不变, 2)代换前后构件的质心位置不变, 3)代换前后构件对质心的转动惯量不变, 1、两个代换质量的动代换 2、两个代换质量的静代换 §4-3 运动副中摩擦力的确定 一、移动副中的摩擦力 1、平面接触 例题 例题 例题 二、转动副中的摩擦力 1、轴颈摩擦 三、平面高副中摩擦力的确定 高副两元素间的相对运动:滚动兼滑动; 存在滚动摩擦力和滑动摩擦力,滚动摩擦力一般较小,通常只考虑滑动摩擦力; 摩擦力和法向反力合成总反力。 1)FR21的方向与法向反力偏斜一摩擦角; 2)偏斜方向应与构件1相对构件2的相对速度v12的方向相反。 §4-4 不考虑摩擦时机构的力分析 一、平面机构中构件组的静定条件 每个低副中的约束反力均含有两个未知数。 每个高副中的约束反力均含有一个未知数。 按构件组进行动态静力计算:选用满足约束反力静定条件的构件组作为隔离示力体。 构件组含有n个构件和PL个低副、 PH个高副: n个构件可列出3n个独立的平衡方程式; PL个低副的低副反力中的未知参数为2 PL ; PH个低副的低副反力中的未知参数为 PH ; 构件组静定的条件为: 所有基本杆组都是满足静定条件的运动链。 二、机构动态静力分析的图解法 一般平面机构中,将基本杆组拆出后,只剩下与机架组成一个低副的主动件。 主动件上有大小待定的平衡力(或力矩)作用; 力的未知参数的个数仍与平衡方程式的个数相等; 主动件满足动态静定条件。 把作用大小待定平衡力(或力矩)的构件统称力分析起始件。 平面连杆机构的动态静力分析步骤 1、进行运动分
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