太阳能选择性涂层复合材料高低折射率的光学性能.docVIP

译文 太阳能选择性涂层复合材料高低折射率的光学性能 作者：M. Farooqa,*, M.G. Hutchinsb 国家研究所的硅技术, No. 25, H-9,巴基斯坦伊斯兰堡 太阳能材料研究实验室,工程学院,牛津布鲁克斯大学 牛津OX3 0英国石油公司、英国 收到日期2000年5月25日,修订后收到日期2001年2月10日 摘要 本次研究的是材料的选择对太阳能选择性涂料光学常数的影响。利用计算机程序计算了光学常数、太阳能吸收是在空气质量(AM)2,和热发射率在300 k,e是200 nm 厚选择性涂层,同时假设麦克斯韦加内特和布莱格曼理论的金属体积分数低于或高于0.3,分别用于设计复合膜的结构。两个系统的复合薄膜金属和介质进行了实验研究,通过射频和直流溅射捏造涂布机和电脑模拟进行验证。系统包含低折射率复合材料如:二氧化硅和其他高折射率材料如:氧化铝。在光谱范围是0.3 -20毫米，这些薄膜被装配在红外反射基片上如镀镍铜或铝。铜基板的结果公布在这里。进行了比较和验证，钨、钴和铬基复合材料,具有不同的折射率,从而验证了选择的材料在选择性涂层的研究。观察高折射率材料有更低的反射特性,通过选择合适的金属体积分数在电介质和增透膜。越高的折射率的因素k,是负责高吸收的因素 pk = l。太阳能吸收率的0.98和0.96是通过模拟和实验发现小于0.05热发射率200纳米厚的复合材料的氧化铝。其结果是更高的值，两个n和k的材料更适合太阳能选择性涂层。 2002爱思唯尔科学保留所有权利。 介绍 太阳能选择性涂层性能提高太阳能收集器的性能。最大可能的吸收在太阳光谱(0.3 - -2.5毫米)和最高反射红外线谱(2.5 -50毫米)的要求，并满足太阳能收集和最低热损失的要求。吸收是函数光学特征的材料和结构(包括数量的层的涂层和体积分数个人的薄层)选择性涂层的反射高或低，但更高热发射率取决于金属基板。吸收的依赖行为上的光学常数的材料是这里重点。光谱选择性涂层应用太阳能,窗户磨光和国防。他泊是选择性吸收器[1]的前沿。大量的光学材料已经开发利用金属/绝缘体复合材料[2]和光学性能的复合薄膜太阳能选择性涂料被广泛研究[3]。有效的光学常数的金属/绝缘体复合材料是由有效介质理论如麦克斯韦加内特和布莱格曼[4,5]。光学常数的涂料可能不同标准Drude法[6],取决于沉积条件下,粒子大小和光学常数的各个组件的电影。差异光学常数的气急败坏的电影的镍、钒、氧化铝和二氧化硅和他们的散装材料显然是由于不同大小的颗粒。这光学常数的差异的原因是不同的实验和模拟的结果。兴趣利用太阳能促使这个调查基本概念的理解吸收太阳辐射的材料。已多次尝试解释溅射条件和金属体积分数(VF)在复合材料,为更高的折射率(n t反向)材料得到高一个 VFm是体积分数的磁带信息处理机层,Xm代表相对金属吗浓度在磁带信息处理机层对金属浓度在层1,这是规范化为1,即Xm+1和Xm的计算方式是 这里N是总层数,m是数量的层。VF范围是在金属体积分数之间的差异底部和顶部的薄膜。在可见光区域的吸收太阳光谱[7]。的细节PGSAC正在尽快发布[8] 实验 计算机模拟工具,基于有效介质模型的使用采用麦克斯韦加内特理论体积分数小于0.3和布莱格曼形式为0.3和更高的体积分数,已开发,以启用吸收器设计的复合选择性。在我们的情况下,体积分数较大比0.3,所以这里介绍的结果是基于布莱格曼形式。 设计工具已经验证了实验工作和已使用进一步调查系统的关键设计参数对各种屈光涂料指数的材料,目的是优化选择性吸收涂层。铜和铝基板(50平方厘米),在室温下适当清洁20%稀硝酸和10 m氢氧化钠分别使用到这200海里复合膜厚的V:氧化铝、镍:二氧化硅被存放。 一个Nordiko ns - 3750系列磁控溅射系统被用于制造薄薄膜太阳能选择性吸收器。这个系统包含一个1.25千瓦射频和6千瓦直流发电机和400电极,10厘米远离目标。基质载体是八角形的,可以在不同的速度旋转所需的公司溅射沉积。美国商会被疏散到低于10 @6托在氩引入气体溅射。这里我们使用一个溅射压力的3.0 - -3.5毫托在质量流率18 sccm。 光学性能的复合膜在太阳能的范围从0.3 - -2.5 mm被测量使用双光束比录音,贝克曼5240积分球分光光度计。球体(0.15米直径)是涂以硫酸钡 (重晶石砂等)。引用被压粉和铝镜重晶石砂等来衡量漫反射和镜面反射,分别。基本上这个仪器分为两个光谱范围从0.3到0.8和0.8到2.5毫米的源头氘和钨灯。标准仪器的仪器误差是70.01。 接近于正常的半球形总反射率也决心用傅里叶改变单一的梁