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第 卷 第 期 年 月 物 理 学 报
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掺!# $ 的%’ 薄膜深能级的研究!
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宋淑芳 陈维德 许振嘉 徐叙
!)(北京交通大学光电子研究所,北京 !$$$%% )
)(中国科学院半导体研究所,北京 !$$$’ )
( 年 月 日收到; 年 月 日收到修改稿)
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利用深能级瞬态谱( )、傅里叶变换红外光谱( )对 以及 掺 的样品进行了电学和光学特
)*+, -+./0 123 123 45675
性分析 研究发现未掺杂的 样品只在导带下 处有一个深能级; 注入 经 , 退火后的样
8 123 $ 9:$; 123 45 =$$ ’$?@A
品出现了四个深能级,能级位置位于导带下 , , 和 ; 注入 经 ,
$ 9’$$ ; $ 9 ! ; $ 9B$$ ; $ 9%!$ ; 123 75 !$($ ’$?@A
退火后的样品同样出现了四个深能级,能级位置位于导带下 , , 和 ;对每一个深
$ 9$ ; $ 9 !=$ ; $ 9B!$ ; $ 9’=$ ;
能级的来源进行了讨论 光谱研究表明,掺 的 样品经 , 退火后,可以观察到 的 处的发
8 45 123 =$$ ’$?@A 45 !(’A?
光,而且对能量输运和发光过程进行了讨论8
关键词: , , ,深能级
123 45 75
: , ,
$()) :$4 :B’$C :’B$*
光过程进行了讨论8
!9 引 言
9 实 验
123 中掺入稀土离子在平板显示以及光通讯中
有广泛的应用前景,因此成为国内外科研人员研究
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